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脈沖電子束沉積系統(tǒng)(Pioneer 180 PED System)

作者:北京正通遠恒科技有限公司
  • 產品信息
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名稱:脈沖電子束沉積系統(tǒng)
品牌:Neocera
產地:美國
型號Pioneer 180 PED System


脈沖電子束沉積(Pulsed Electron Deposition)是高能脈沖(100ns) 電子束( 約1000 A,15 keV) 在靶材上穿透將近1 um,使靶材快速蒸發(fā)形成等離子體。對靶材的非平衡提取(燒灼)使等離子體的組成與靶材的化學計量組成一致。在最佳條件下,靶材的化學計量與沉積薄膜的保持一致。所有的固態(tài)材料如金屬、半導體和絕緣體等都可以用PED 技術沉積各自的薄膜。
? 獨立的交鑰匙脈沖電子束沉積系統(tǒng)PED
? 外延薄膜沉積,多層異質結構(heterostructures)與超晶格
? 氧化物薄膜沉積時氧氣兼容
? 升級選項:離子輔助PED, 連續(xù)組份沉積PED, 進樣系統(tǒng)load-lock
? 可附加的沉積源:脈沖激光與射頻/ 直流濺射
? 集成XPS/ARPES UHV 集群系統(tǒng),原位高真空基片傳送系統(tǒng)


真空腔 18" 直徑的球形腔體
8"CF 窗口
6.75"CF PED 源窗口
3 個6"CF 窗
額外的2.75" 與1.33"CF 窗口
PED源 電子槍能量:8-20 keV
脈沖能量:最大能量800 mJ
最小能量100 mJ
工藝氣體壓強: 3-20 mTorr
工藝氣體: 氧氣,氮氣,氬氣
脈沖能量變化: ±10%
脈沖寬度: 100 ns
最大重復率: 10Hz at 15kV,5Hz at 20kV
最小束截面: 8 x10-2 cm2
最大能量密度 :1.3 x 108 W/cm2
Z 向對準范圍: 50 mm
XY 向對準范偉: +/- 20 mm
火花塞壽命 ~3x107 脈沖
基片加熱器 最大直徑2",最小10x10mm2
最高溫度:850 ℃
基片旋轉:1-30 RPM(360° 旋轉)
基片加熱器:兼容1 個大氣壓的氧壓
加熱器溫度通過可編程的PID 控制
多靶材旋轉臺 6 個1" 的靶材或3 個2" 的靶材
靶材旋轉:360° 連續(xù)旋轉(1-20 RPM)
靶材柵格式掃描
獨特的靶材柵格化燒蝕方案
靶材索引,鍍多層薄膜
靶材高度可調
靶材擋板避免靶材間的交叉污染
提供連續(xù)組成擴展/ 組合PED 的能力
PED系統(tǒng)軟件 Windows 7, LabVIEW 2013控制基片加熱臺
控制靶材公轉臺
控制真空泵
控制質量流量計?
外部的PED 源觸發(fā)器
可選的工藝自動化選項
真空泵 干泵,渦輪分子泵
本底真空壓強:標準配置8 x 10-8 Torr
渦輪分子泵轉速由軟件控制

脈沖電子束沉積系統(tǒng)PED沉積的代表性材料示例

* 高溫超導(HTS) YBCO( 和GdBCO) 薄膜

* 順電(Ba-SrTiO3) 薄膜

* 金屬氧化物(SrRuO3) 薄膜

* 隔熱/ 音玻璃(SiO2) 膜和Al2O3 膜

* 聚四氟乙烯(PTFE) 薄膜


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