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Insplorion Acoulyte

作者:
  • 產(chǎn)品信息
  • 技術(shù)指標(biāo)
  • 應(yīng)用領(lǐng)域
  • 索取報(bào)價(jià)

名稱:納米等離子傳感分析儀

品牌:Insplorion

產(chǎn)地:瑞典

型號(hào):Acoulyte

將光譜學(xué)與QCM-D相結(jié)合。同時(shí)使用納米等離子體光譜技術(shù)(NPS)和耗散監(jiān)測(cè)型石英晶體微天平技術(shù)(QCM-D)進(jìn)行實(shí)時(shí)測(cè)量。當(dāng)配備Q-Sense窗口模塊時(shí),Insplorion Acoulyte直接安裝在Q-sense Explorer(E1)和Analyzer(E4)儀器上。Insplorion Acoulyte傳感器是具有NPS結(jié)構(gòu)的Q-Sensor。


主要特征:

a、同時(shí)獲得相同表面上相同樣品的干質(zhì)量(折射率RI)、濕質(zhì)量(聲學(xué))和黏彈性的實(shí)時(shí)變化。
b、使用Insplorion的納米等離子體光譜技術(shù)(NPS)和Q-Sense的耗散監(jiān)測(cè)型石英晶體微天平技術(shù)(QCM-D)在完全相同的實(shí)驗(yàn)條件下同時(shí)測(cè)量。
c、非常容易使用




測(cè)量池

由Q-Sense窗口模塊(QWM401)決定

傳感器

 尺寸直徑                       14 mm
 襯底  SiO2涂層的QCM-D傳感器
 表面  納米結(jié)構(gòu)金
 標(biāo)準(zhǔn)涂層                     Si3N4, SiO2, Al2O3, TiO2

 

測(cè)量特征

 光源                  鹵鎢燈
 靈敏度*  0.03單分子層
 測(cè)量點(diǎn)直徑     3 mm
 時(shí)間分辨率  每秒10個(gè)采樣點(diǎn)
 典型噪音  <0.01 nm
 波長(zhǎng)范圍  450-1000 nm

QCM-D的測(cè)量不受Acoulyte的影響。

 

尺寸(寬度x深度x高度)

 Acoulyte模塊                   8x5x3 cm                       
 Insplorion光學(xué)單元  25x27x9 cm

 

軟件

 兼容軟件                                                                        Insplorer
 操作系統(tǒng)  兼容Microsoft Windows操作系統(tǒng)
 數(shù)據(jù)輸出格式  ASCII碼文本文件格式,直接使用的任何繪圖軟件都兼容此格式
 分析的參數(shù)  分析的參數(shù)多參數(shù)輸出(比如:LSPR峰處的共振波長(zhǎng)和消光)

1、NPS和QCM-D的互補(bǔ)性

測(cè)量 

感應(yīng)深度 

NPS

干質(zhì)量

< 30 nm

QCM-D

濕質(zhì)量

> 300 nm

Acoulyte

干質(zhì)量和濕質(zhì)量

深度分析

 
2、InsplorionNPS技術(shù)

在納米等離子體光譜技術(shù)(NPS)中,納米結(jié)構(gòu)傳感器的局域表面等離激元共振技術(shù)(LSPR)用于探測(cè)鄰近傳感器表面(<30 nm)的折射率(與光/干質(zhì)量有關(guān))的微小變化。它能夠極其靈敏地檢測(cè)發(fā)生在傳感器/樣品界面處的變化過程。




a、分子解吸附(吸附) 

時(shí)間和深度分辨測(cè)量厚膜(<~1 mm)的分子解吸附(吸附)。Acoulyte也可以辨別溶脹和吸附/解吸附事件。

檢測(cè)到什么? 

NPS 

鄰近表面(<30 nm)的折射率變化

QCM-D 

整個(gè)膜的質(zhì)量變化。 


b、脂質(zhì)雙層膜 

Acoulyte能夠更詳細(xì)地闡釋表面薄膜的形成過程。

檢測(cè)到什么? 

NPS 

囊泡吸附時(shí)折射率增大
囊泡坍塌時(shí)折射率增大

QCM-D 

囊泡吸附時(shí)質(zhì)量增大
囊泡坍塌時(shí)質(zhì)量減小


c、氣體吸附/解吸附 

通過QCM-D技術(shù)和NPS技術(shù)的聯(lián)用,就可以實(shí)現(xiàn)深度分析以及研究表面支撐膜內(nèi)的擴(kuò)散時(shí)間和機(jī)制。

檢測(cè)到什么? 

NPS 

傳感器/樣品界面的折射率變化。

QCM-D 

整個(gè)膜和膜的頂部的質(zhì)量變化。




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